搪玻璃設(shè)備主要用于工業(yè)領(lǐng)域，使用為廣泛的就是反應(yīng)釜和反應(yīng)罐類設(shè)備，在反應(yīng)罐等搪玻璃設(shè)備工作之后進(jìn)行清理時(shí)經(jīng)常會(huì)發(fā)現(xiàn)設(shè)備內(nèi)壁有多微小的凹點(diǎn)，這些大大小小的凹點(diǎn)是什么原因造成的？是物料在反應(yīng)過程中對(duì)玻璃釉質(zhì)層產(chǎn)生了腐蝕嗎？

       如果是物料具有腐蝕性，又或者在反應(yīng)過程中有對(duì)玻璃釉質(zhì)腐蝕作用的物質(zhì)產(chǎn)生只會(huì)造成面積性腐蝕，而并非是大小不一的凹點(diǎn)。所以物料化學(xué)性造成的腐蝕基本可以排除。那究竟是什么原因？

       經(jīng)過查閱資料發(fā)現(xiàn)，在許多搪玻璃設(shè)備中會(huì)發(fā)生一種名為靜電穿刺的效應(yīng)，會(huì)導(dǎo)致釉質(zhì)出現(xiàn)一個(gè)個(gè)小凹坑。當(dāng)設(shè)備內(nèi)部的反應(yīng)物屬于帶有懸浮物的液體時(shí)，懸浮物會(huì)與搪玻璃設(shè)備玻璃釉質(zhì)層內(nèi)壁發(fā)生劇烈摩擦，同時(shí)物料自身也在發(fā)生摩擦，我們知道摩擦可以帶來大量電荷，當(dāng)這些電荷隨著反應(yīng)的進(jìn)行越來越多且不斷聚集，終于形成了相對(duì)高壓靜電荷，這種靜電荷對(duì)搪玻璃層產(chǎn)生強(qiáng)烈的穿刺作用，也就是點(diǎn)蝕作用。

       這種靜電穿刺造成的點(diǎn)蝕對(duì)設(shè)備的損壞會(huì)隨著時(shí)間的積累逐步加深，如果不及時(shí)采取有效地措施，那么搪玻璃設(shè)備快就會(huì)因高度點(diǎn)蝕而報(bào)廢。

       靜電點(diǎn)蝕的原因在于大量靜電荷的聚集，而靜電荷則是由劇烈摩擦所產(chǎn)生的，所以想要減輕這種點(diǎn)蝕現(xiàn)象簡(jiǎn)單而又有效地方法就是降低搪玻璃設(shè)備攪拌器的攪拌速度，減小摩擦，電荷自然減少，而少量的電荷對(duì)搪玻璃層的損害是有限的。